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EMIC愛美克紫外線強(qiáng)度計(jì)UV-D3

更新時(shí)間:2024-07-31

簡(jiǎn)要描述:

EMIC愛美克紫外線強(qiáng)度計(jì)UV-D3
EMIC愛美克 UV-D3 紫外線強(qiáng)度計(jì)
磁粉探傷用補(bǔ)助機(jī)材

型號(hào):廠商性質(zhì):經(jīng)銷商瀏覽量:1338
品牌其他品牌貨號(hào)UV-D3
規(guī)格1供貨周期一個(gè)月以上
主要用途紫外線強(qiáng)度計(jì)應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保,電子/電池

EMIC愛美克紫外線強(qiáng)度計(jì)UV-D3

EMIC愛美克紫外線強(qiáng)度計(jì)UV-D3

 EMIC愛美克 UV-D3 紫外線強(qiáng)度計(jì)

磁粉探傷用補(bǔ)助機(jī)材

紫外線強(qiáng)度計(jì)?。眨郑模?/h4>

ソーラーパネルの採用により、消費(fèi)電力大幅削減
0~45mW/cm2の超ワイドレンジ
ピークホールド機(jī)能により、測(cè)定者を選ばない

用途

●蛍光探傷に必要な紫外線の強(qiáng)度測(cè)定
 

測(cè)定範(fàn)囲0.00~45.00mW/cm2
精度0.00~6.00mW/cm2 : ±0.30mW/cm2
機(jī)能

?ピークホールド、ホールド
?スケールオーバー、バッテリー不足表示
?自動(dòng)電源OFF

外形寸法W95mm×D135mm×H27mm
付屬品収納ケース、取扱説明書 各1部

通過VMU-LB和固定倍率觀察用相機(jī)卡口的
組合,能夠?qū)ν晃恢靡圆煌堵释瑫r(shí)觀
察。
(低倍率側(cè):2/3型、高倍率側(cè):1/2型等)

通過與YAG激光(1064nm、532nm、355nm、266nm)物鏡組合,可實(shí)現(xiàn)高精度、高
品質(zhì)加工。
與簡(jiǎn)易支架一起使用,還可作為緊湊型顯微鏡使用。
★保護(hù)膜、有機(jī)薄膜等的剝離
★金、鋁等金屬配線切割、下層圖案的外露
★FPD的各種缺陷修正
★光掩模修正
★標(biāo)記、修剪、圖像形成、局部退火、劃線



憑借長(zhǎng)動(dòng)作距離設(shè)計(jì)的物鏡,實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的操作性。
與定位器、探針臺(tái)等組合





 

 

 

 

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